EDA研究专栏
刘端祥, 黄富兴, 李兴权, 朱文兴
集成电路与嵌入式系统.
2024, 24(1):
46-57.
目前,基于解析方法的布图规划取得了很好的结果,模块翻转有实际应用场景且可以进一步优化结果, 但解析方法尚无法处理模块翻转问题。因此,本文首次尝试使用统一的解析方法来解决这一问题, 提出了一种新的力,即翻转力。在总体布图规划阶段,翻转力能根据线长将每个模块翻转到理想的方向。此外,基于静电场模型设计了一个新的总体布图规划流程。 在该流程中,本文对超大型模块的密度计算进行了特殊处理, 以减小超大型模块的排斥力,使得其他模块能更加靠近超大型模块,从而实现更加均匀的模块分布。为了更好地利用边框处缝隙中的空白区域,提出了一种边框处缝隙处理方法。最后, 在布图规划算法中添加了后处理阶段以进一步优化布图结果。该后处理阶段首先基于混合整数线性规划的翻转模型对模块的翻转方向进行再次优化,然后使用本文提出的新的空白区域再分配方法。该方法减小了线性规划问题中约束条件的数量且能进行多轮次的优化,相对于以往的方法能够更有效地缩短线长。在HB+和ami49_x基准电路上,实验结果表明,本文的布图规划算法与最好的布图规划算法相比, 平均半周长线长分别至少减小了13.3%和13.7%。